Um das Konzept zu veranschaulichen, wie aus Masken und Schichten eine Struktur extrahiert wird, sollen die Eingabedaten für die in Abbildung 5.28 gezeigte Struktur von vier Leiterbahnen besprochen werden.
Abbildung 5.28: Kontaktanordnung
Ziel ist es, daraus das in Abbildung 5.29 gezeigte Gitter zu erzeugen.
desc { four conductor example, commandline: -hmax 0.05 }
lengthunit { 1.0 um }
mask { MASKL1 rectangle { FX1 SIO2X { 0.0 0.0 } { 0.7 0.4 } } }
mask { MASKL2 rectangle { FX1 SIO2X { 0.0 0.0 } { 0.7 0.4 } }
rectangle { FX3 PSIX { 0.17 0.0 } { 0.13 0.4 } }
rectangle { FX5 PSIX { 0.40 0.0 } { 0.13 0.4 } } }
mask { MASKL3 rectangle { FX7 SIO2X { 0.0 0.0 } { 0.7 0.4 } } }
mask { MASKL4 rectangle { FX8 SIO2X { 0.0 0.0 } { 0.7 0.4 } }
polygon { FX9 ALX { 0.00 0.00 } { 0.00 0.10 } { 0.70 0.10 }
{ 0.70 0.30 } { 0.35 0.30 } { 0.30 0.25 }
{ 0.00 0.25 } } }
mask { MASKL5 rectangle { FX11 SIO2X { 0.0 0.0 } { 0.7 0.4 } } }
material { ALX Al 0.0 2.8 uOhmcm }
material { PSIX PolySi 11.8 }
material { SIO2X SiO2 3.9 }
contact { CONTC1 cap flatbottom { FX1 } }
contact { CONTC2 cap vol { FX3 } }
contact { CONTC3 cap vol { FX5 } }
contact { CONTC4 cap vol { FX9 } }
layerstructure {
origin { 0.0 0.0 0.0 }
plane { ----------- }
layer { MASKL1 0.08 }
plane { ----------- }
layer { MASKL2 0.06 }
plane { ----------- }
layer { MASKL3 0.05 }
plane { ++++++ SURF1 }
layer { MASKL4 0.10 }
plane { ++++++ SURF1 }
layer { MASKL5 0.6 }
plane { ----------- }
}
plane { SURF1 hormin { linear { 0.00 0.000 0.012 } { 0.03 0.000 0.012 } { 0.10 0.000 0.025 }
{ 0.19 0.000 0.040 } { 0.22 0.000 0.045 } { 0.25 0.000 0.040 }
{ 0.32 0.000 0.023 } { 0.35 0.000 0.020 } { 0.38 0.000 0.023 }
{ 0.45 0.000 0.040 } { 0.48 0.000 0.045 } { 0.51 0.000 0.040 }
{ 0.60 0.000 0.025 } { 0.67 0.000 0.012 } { 0.70 0.000 0.012 } }
hormax { linear { 0.00 0.400 0.012 } { 0.03 0.400 0.012 } { 0.10 0.400 0.025 }
{ 0.19 0.400 0.040 } { 0.22 0.400 0.045 } { 0.25 0.400 0.040 }
{ 0.32 0.400 0.023 } { 0.35 0.400 0.020 } { 0.38 0.400 0.023 }
{ 0.45 0.400 0.040 } { 0.48 0.400 0.034 } { 0.51 0.400 0.040 }
{ 0.60 0.400 0.025 } { 0.67 0.400 0.012 } { 0.70 0.400 0.012 } }
vermin { linear { 0.00 0.000 0.000 } { 0.00 0.400 0.000 } }
vermax { linear { 7.00 0.000 0.000 } { 7.00 0.400 0.000 } }
}
Der syntaktische Aufbau ist ähnlich dem Format, das in Abschnitt 5.2.1 angegeben ist. Das Format für geschichtete Strukturen soll nun übersichtsmäßig besprochen werden. Referenzierbare Objekte haben als ersten Eintrag einen Bezeichner, der beliebig gewählt werden kann. Die horizontale geometrische Information wird für jede Schicht durch Masken ,,mask`` spezifiziert. Jede Maske kann Polygone ,,polygon`` und Rechtecke ,,rectangle`` als Objekte enthalten. An erster Stelle steht wieder der obligatorische Bezeichner, dann folgt eine Referenz auf das gewünschte Material und schließlich folgen die einzelnen in Klammern gruppierten Koordinaten der Punkte. Der erste Punkt im Polygon oder Rechteck setzt einen Objektoffset fest. Dann folgen die einzelnen Punkte im Falle eines Polygons. Für ein Rechteck folgen Länge und Breite des Objekts.
Untersucht man Schicht zwei, die in Maske ,,MASKL2`` spezifiziert und in Abbildung 5.30 gezeigt wird, so sieht man, daß nicht fünf disjunkte Rechtecke angeführt sind, sondern drei ausreichend sind. Der Gültigkeitsbereich der einzelnen Polygone oder Rechtecke ist nämlich folgendermaßen festgelegt: Alle Objekte einer Maske werden gestapelt und die eigentlichen Objektgrenzen dadurch gebildet, was bei einer Ansicht von oben sichtbar bleibt.
Die einzelnen Masken werden in einer Schichtenspezifikation ,,layerstructure`` zusammengefaßt. Im ,,layer`` Konstrukt wird eine einzelne Maske referenziert und ihr eine gewisse Dicke zugeordnet. Jede Schicht ,,layer`` hat zwei Begrenzungsflächen ,,plane``, die entweder planar oder nichtplanar sind. Ist eine Begrenzungsfläche nichtplanar ,,++++++ SURF1``, so referenziert sie eine Fläche ,,plane``, die außerhalb der ,,layerstructure`` spezifiziert wird. Diese vierecksförmige Fläche wird über ihre vier gekrümmten Kanten beschrieben und im Präprozessor über eine transfinite Interpolation in eine Fläche umgewandelt, auf welche die Masken projiziert werden.
Abbildung 5.29: Diskretisierungsgitter aus 4314 Tetraeder