Abbildung 4.13: Referenzverteilung fuer eine 25keV-Bor-Punktantwort. Der
Ionenstrahl wurde um 7
gegenueber der [100]-Richtung gekippt,
das Implantationsfenster war 10nm breit und die Siliziumoxidstaerke
betrug 5nm. Mit Hilfe dieses Profils werden die Ist-Verteilungen in
den Abbildungen 4.18 und 4.19 analysiert.
Bei fast jeder Fehleranalyse wird ein Ist-Wert mit einem Soll-Wert verglichen und bewertet. Auch in diesem Fall läßt sich dieses Schema anwenden, indem für jede gewünschte Punktantwort (Ist-Verteilung) eine Referenzverteilung (Soll-Verteilung) berechnet wird. Diesen Namen trägt letztere allerdings nur dann zu Recht, wenn ihr eigener statistischer Fehler um Größenordnungen kleiner ist als jener der Ist-Verteilung. Selbstverständlich muß für die Simulation der Referenzverteilung die konventionelle Methode verwendet werden (siehe Abbildung 4.13).
Auch an diesem Punkt wird wieder klar, daß nur mit Hilfe von Point-Responses eine Beurteilung der Statistik möglich ist, denn es werden
benötigt, wobei die Rechenzeit für letztere einige Monate betragen würde.