1.1 Motivation



next up previous contents
Next: 1.2 Topographiesimulation Up: 1 Einleitung Previous: 1 Einleitung

1.1 Motivation

Topographiesimulation, als ein Teilgebiet der Prozeßsimulation, ermöglicht die Vorhersage der Geometrieänderung eines Bauelementes bei Anwendung eines Lithographie-, Ätz- oder Depositionsverfahrens, wobei als Resultat der Simulation auch die zeitliche Entwicklung dieser Geometrieänderung vorliegt.

Die Ergebnisse der Topographiesimulation dienen einerseits dem besseren Verständnis des jeweiligen angewandten Topographieverfahrens, andererseits auch als Geometrieinformation für nachfolgende Prozeß- und Bauteilsimulatoren.

Viele der heute verwendeten Topographiesimulatoren erlauben die Simulation zweidimensionaler Schnittbilder der Geometrie. Dabei wird vorausgesetzt, daß sich die betrachtete Struktur entlang der dritten Dimension nicht oder nur sehr schwach ändert. Da die Erweiterung der verwendeten Modelle und Algorithmen für die dreidimensionale Simulation in den meisten Fällen erhebliche Schwierigkeiten mit sich bringt, erscheint es sinnvoll, Simulatoren in einer Weise zu entwickeln, daß sie sowohl für die zwei- als auch für die dreidimensionale Simulation einsetzbar sind.

Die vollständige dreidimensionale Charakterisierung eines Bauelementes gewinnt vor allem wegen jener physikalischen Effekte an Bedeutung, die durch die zunehmende Verkleinerung der Strukturen nun nicht mehr vernachlässigt werden können, in den meisten Fällen sogar einen entscheidenden Einfluß auf das Ergebnis der Simulation haben.



Martin Stiftinger
Thu Nov 24 17:41:25 MET 1994