Die am Institut für Mikroelektronik entstandenen Simulatoren wurden in das TCAD-System VISTA integriert. Die Anbindung des auf Feldeffekttransistoren spezialisierten, weit verbreiteten Bauelementsimulators MINIMOS [Sel80] [MMO90] ist Teil der vorliegenden Arbeit und wird in Abschnitt 3.4 erklärt.
Zugleich mit der Integration des bisher monolithischen, zweidimensionalen Prozeßsimulators PROMIS [PRO89] [Hob90] [Wim93] wurde eine große Umstrukturierung vorgenommen. Die großteils disjunkten Teilfunktionalitäten wurden in Einzelmodule für analytische Ionenimplantation, Monte-Carlo-Ionenimplantation, planare und nicht-planare Diffusion aufgetrennt [Sti92], die Daten im PIF-Format austauschen. Diese Einzelmodule werden bei der Simulation eines aus einer Sequenz von Prozeßschritten bestehenden Herstellungsprozesses von einem in Entwicklung befindlichen VISTA-Modul zur Simulationsflußkontrolle [Pic93a] [Pic93b] angesteuert. Unter Verwendung von VISTA als Entwicklungs-Framework sind neue, dreidimensionale Prozeßsimulationsmodule in Arbeit, wie z.B. für allgemeines Ätzen und Deponieren [Str93] oder für die Monte-Carlo-Ionenimplantation [Sti93].
Das Programmsystem VLSICAP [VCP86] dient der Analyse
von Verbindungs- und 
-Übergangskapazitäten in VLSI-
(,,Very Large Scale Integration``) Schaltungen. Als typischer
Nutzen einer modularen Integration mit dem gemeinsamen Datenaustauschformat
PIF wird im Endausbau der VLSICAP-eigene Gittergenerator für andere
Simulatoren verwendet oder auch gegen andere in VISTA integrierte oder noch
zu integrierende Gittergeneratoren ausgetauscht werden können.
Zur Zeit ist VISTA von der Seite der Bauelementsimulation auf den Einsatz in der CMOS- und MESFET-Entwicklung beschränkt. Eine Erweiterung auf Bipolar- und Leistungshalbleiter wird durch die geplante Integration des ebenfalls am Institut für Mikroelektronik der Technischen Universität Wien entstandenen, allgemeinen Bauelementsimulators BAMBI [Fra85] [BAM89] realisiert werden.
Über Datenkonverter und zum Teil über Bedienungspaneele werden
extern entwickelte Simulatoren in VISTA einbezogen. In Kooperation
mit der University of California at Berkeley wurde deren
weit verbreitetes Photolithographie- und Ätz- und
Depositions-Simulationsprogramm SAMPLE [Old79] [Old80]
angekoppelt. Ein anderer Datenkonverter erlaubt die
Übernahme von Dotierungsprofilen des bekannten eindimensionalen
Prozeßsimulators SUPREM-III [Ho83]. Ein bidirektionaler
Datenkonverter zwischen PIF und dem auf einer Verallgemeinerung
des Datenformats von SUPREM-IV [Law88] beruhenden
T
IF (Technology Interchange Format)
von Technology Modeling Associates (TMA) ist die
Schnittstelle zu allen im
TCAD-System CAESAR [Axe93] integrierten Simulatoren.
Darunter sind die kommerzialisierten Derivate von SUPREM-IV und
des weit verbreiteten
allgemeinen Halbleiterbauelementsimulators PISCES-II [Pin85]
für Simulationsanwender aus der Halbleiterindustrie interessant.