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D I S S E R T A T I O N





Topography Simulation of
Deposition and Etching Processes






ausgeführt zum Zwecke der Erlangung des akademischen Grades
eines Doktors der technischen Wissenschaften





eingereicht an der Technischen Universität Wien,
Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik, von





ALIREZA SHEIKHOLESLAMI





Neilreichgasse 23/14-15
A-1100 Wien
Matrikelnummer 9825631
geboren am 17. September 1971 in Babol, Iran
Wien, im September 2006





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R. Wittmann: Miniaturization Problems in CMOS Technology: Investigation of Doping Profiles and Reliability